离子束辅助沉积镀膜

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姓名：刘翔翔
学号：20100760
学院：机械与汽车工程学院
班级：真空一班


用离子束辅助沉积技术制备ZnS/MgF2膜①
镀膜机采用北京仪器厂生产的ZZSX-
1200真空镀膜机。镀膜室尺寸(宽×深×
高):1200×958×1250(mm3)。蒸发源有电
阻式和电子枪两种。夹具为球面行星、公自
转结构,数量为3片,每片可放置Φ50mm冷
光杯192个,即每次可镀覆576个Φ50mm
冷光杯。烘烤采用管状加热器辐射加热方
式。
离子源为自行设计制造,外径160mm。
输入电压220V,50Hz,±10%。阴极灯丝用
Φ0.5mm钨丝制成,长度120mm,工作电流
16~20A。放电压一般为50V,电流2~3A,即放电功率一般控制在100~150W。本离子源
不用加速极与栅极,结构较为简单,容易进行维修。
膜厚监控采用石英晶体振荡仪。监测厚度(深度)范围0.1nm~999.9μm,自动换挡,分
辨率0.1nm。监测速率范围0.1~99.99nm,分辨率0.1nm。预置终点厚度0.1nm~999.
9μm。输入电压:220V,50Hz,功率小于40W。
离子